簡要描述:高頻感應熔樣機介紹是我公司精心研制的一款針對XRF分析用玻璃熔片法制樣的設備,還可用于制備溶液用于AAS和ICP等分析
詳細介紹
高頻感應熔樣機介紹的使用條件
使用過程中必須保持真空環(huán)境,有利于在下次使用時加快真空化速度。
溫度控制不得超過額定溫度。嚴禁向爐內倒入各種液體和熔融的金屬材料,以保持爐內清潔。
定期維護自控系統(tǒng)電氣連接部分的接觸是否良好,并注意加熱電源與感應電磁線圈的連接點是否緊固。
高頻熔樣機的工作條件是否精致,不能隨意使用。主要用于以下前提條件。
(1)工作溫度在-10℃至75℃之間。
(2)周圍空氣的相對濕度不得超過85%。
(3)電爐周圍無導電浮塵、易燃易爆氣體和腐蝕性氣體等嚴重威脅金屬材料和絕緣層材料的導電浮塵、易燃易爆氣體和腐蝕性氣體。
(4)無明顯的歪斜、振動和顛簸。
高頻感應熔樣機介紹產品特點:
1· 操作采用觸摸屏+PLC 控制器,能實現(xiàn)熔煉功率、加熱時間和搖擺角度/速度包括抽真空、自動充放氣等全自動控制,同時可采用紅外監(jiān)測樣品溫度;程度實現(xiàn)了一鍵控制全過程樣品熔融過程。
2· 熔化速度快,由于熔化過程帶自旋加搖擺裝置,使制成的熔融樣品均勻確保了樣品分析的準確性。
3· 可程序階梯式升溫并采用紅外測溫以方便滿足不同材料熔融條件
4· 坩堝數(shù)量:2 個坩堝,
5· 熔樣時間:根據(jù)具體工藝,一般5-10分鐘完成一次式樣測試
6. 工藝數(shù)量存儲:工藝可隨時編輯、保存、下載、調用,存儲數(shù)目根據(jù)需要和內存配置可不限條數(shù)的編輯。
設備參數(shù):
1·電源電壓:220V/2P 50Hz
2· 坩堝擺動角度:0~90 度(可調節(jié)),
3·坩堝擺動速率:0~20轉/分(可調節(jié))
4· 設備總功率:10Kw;
5· 設備使用溫度:0-1300℃
6· 插座電流:2P,63A
7· 外形尺寸:約 1100×550×1250mm(L×W×H)
8· 設備總重量:約150Kg
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